?磁力研磨機實際操作的關鍵是得到拋光速率，便于盡早去除拋光全過程中形成的損傷層。與此同時，拋光損傷層不可危害觀查到的機構，即不容易引起假機構。前面一種必須應用粗耐磨材料確保較高的拋光速度來去除拋光損傷層，但拋光損傷層也較深；后面一種必須 應用使拋光損傷層偏淺的原材料，但拋光率較低。

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磁力研磨機操作的關鍵是什么?

處理這一問題的法子便是把拋光分成兩個階段。

粗拋光的目標是在拋光后去除毀壞的表面。在這個環(huán)節(jié)，拋光速率應當做到。不光滑拋光造成的表面損傷是主要要素，但應盡量小。

與此同時，試品應沿圓盤半經(jīng)轉動前后左右挪動，以防止磁力研磨機拋光織物的部分損壞。在拋光全過程中，應持續(xù)加上硅微粉混液，以維持拋光織物一定的環(huán)境濕度。環(huán)境濕度會消弱劃痕的拋光實際效果，使樣品中的硬性相發(fā)生浮雕圖案狀況，鋼中的非金屬材料摻雜物和生鐵中的高純石墨相造成“托尾”狀況。

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